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產(chǎn)品簡介
MKS流量計640A-14312氣體流量控制器
MKS流量計640A-14312氣體流量控制器
產(chǎn)品價格:¥9999.99
上架日期:2023-04-30 21:34:34
產(chǎn)地:美國
發(fā)貨地:廣東深圳市
供應(yīng)數(shù)量:不限
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詳細(xì)說明

    美國MKS流量計的詳細(xì)信息

    美國MKS流量計
    美國MKS INSTRUMENTS成立于1961年,作為半導(dǎo)體零部件的供應(yīng)商,在氣體、真空儀器及制程控制應(yīng)用等方面有技術(shù)獨到之處,美國萬機儀器MKS INSTRUMENTS產(chǎn)品起源于壓力測量和控制核心技術(shù),延伸到材料遞送、氣體成分分析、靜電荷控制、工藝控制、信息管理、電源和反應(yīng)氣體發(fā)生器及真空技術(shù),其產(chǎn)品廣泛地應(yīng)用于各種半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備和制造過程中。美國MKS產(chǎn)品包括:美國MKS流量計、MKS薄膜真空計、MKS流量控制閥。
    代表型號:AX7690,AX3060,AX7610,AX2500,AX2600,AX7670,AX7680,AX7685,AX7645,LIQUOZON,NOVA-25,NOVA-50,SPECTRUMB5002, SPECTRUM B11002,ACG-3B,ACG-6B,ACG-10B,GHW-12,GHW-25,GHW-50,SPECTRUM 3013,SUREPOWER QL3513, SUREPOWERQL6513, SUREPOWER QL10513, SUREPOWER QL13013,OPTIMA OPT-50, OPTIMA OPT-100, OPTIMA OPT-200, OPTIMA OPT-400,OPTIMA OPT-600,RPG-50,RPG-100,ENI-RFPC,MWH-5,MW-10D,ENI-2500-13.56,MWH-100,MWH-25,VIPROBE,1249A,148JA11CR1M, 148JA12CR1M, 148JA13CR1M, 148JA14CR1M, 148JA21CR1M, 148JA22CR1M, 148JA23CR1M,
    MKS BARATRON 622A01TDE 1 Pa/133.32C70145 Lot 2
    MKS Baratron Pressure Switch (41A & 51A)
    MKS INSTRUMENTS PORTABLE BARATRON SYSTEM
    MKS Instruments Baratron Pressure Transducer 220BHS-2A1
    MKS Baratron Type 224/224HA Pressure Switch/Controll?er
    MKS Baratron Absolute Pressure Transducer 627B Manual
    MKS 621C13TBFHD BARATRON SIGNAL CONDITIONER PRESSURE
    MKS PAR-10 BARATRON
    MKS BARATRON 627A-13614 .25 Pa/133.32
    MKS Baratron Pressure XDCR, 1350-01153, 750B11TCD2GG
    MKS BARATRON 223BD-00100AAB PRESSURE TRANSDUCER TYP 223
    MKS BARATRON PRESSURE TRANSDUCER 850BRDPCB4GH
    MKS Baratron Pressure Transducer 872B12PMD2MT1 100PSIA
    MKS BARATRON HEAD UNIT MODEL# 698A12TRA 100 TORR
    MKS Model 722A 21TCB3FJ Baratron, 20 TORR Range
    MKS Baratron Manometer 100 Torr 622A12TAE new
    MKS Baratron Capacitance Manometer 100 Torr 626A12TBETEL UNITY II
    MKS BARATRON 627 PRESSURE TRNSDCER 10 TORRTEL UNITY II
    MKS BARATRON 627 PRESSURE TRNSDCER 10 TORR
    MKS BARATRON PRESSURE SWITCH 51A 450 Torr VCR 1000 -NEW
    MKS Baratron Pressure Switch 10 Torr-G 41A-15460 NEW
    MKS Baratron Single-end Vacuum Switch, 51A11TGA2BA001
    MKS BARATRON PRESSURE TRANSDUCER 722A13TCD2FA
    MKS BARATRON PRESSURE GAUGE TRANSDUCER 1000 PSI 840B SS
    MKS Baratron Manometer Transducer 1000 Torr 626A13TBE
    MKS Baratron Single-end Pressure Switch, 51A13TCA1AA999

    深圳市天鉉真空技術(shù)有限公司供應(yīng)半導(dǎo)體過濾器 半導(dǎo)體配件mks真空計流量計 等進(jìn)口控制器

    供應(yīng)CTI低溫泵維修和銷售詳細(xì)介紹

    CTI(Ulvac)低溫泵和氦氣壓縮機維修、銷售和技術(shù)咨詢8200/9600

    CTI(Ulvac)低溫泵和氦氣壓縮機維修、銷售和技術(shù)咨詢。

    OB8F:

    OEM (CTI) Refurbished CTI Cryogenics Endura 8F Onboard Cryogenic Vacuum Pump.

    . Utilized on AMAT Endura HP PVD Systems, OEM Refurbished to Like New Condition.

    . Certificate of manufactures conbity attached.

    . ConFlat Flange with Copper Gasket. In OEM Box

    . CTI Part # 8116143G001   Serial # A06423485 AMAT Part # 0190-13371

    8200: 8032559G001

    美國CTI壓縮機維修9600: 8135900G001

    MKS354005-YD-T

    Granville-PHillips真空計    275529-EU

    1.型號:275529-EU

    2 MKS390411-0-YE-T真空計GRANVILLE-PHILLIPS

    3.非實價,議價!英福康真空計MKS354005-YD-T離子對撞壓力計MKS

    INFICON BAG302 B-A 型熱陰極電離真空計(中高真空計)

    INFICON 單臺 Bayard-Alpert 熱離子計 BAG302 的測量范圍從 1.3 × 10-9 6.7×10-2 mbar(1 × 10-9 到 5 × 10-2 Torr)。緊湊型一體化熱離子計BAG302提供易于更換的雙燈絲傳感器,內(nèi)置OLED顯示屏,設(shè)定點繼電器和對數(shù)線性模擬輸出以及集成的RS485數(shù)字接口,可提高集成靈活性。這些功能與堅固的設(shè)計相結(jié)合,使BAG302成為一種經(jīng)濟實惠且可重復(fù)的過程,可作為自己的壓力測量儀器的基礎(chǔ),并提供高價值/低擁有成本的選擇。

    INFICON 的 BAG302 熱離子計是下面列出的 MKS/GP 部件號的直接直接替代品。 這還包括較舊的傳統(tǒng) MKS 354 微離子®模塊。


    MKS系列 部件號 顯示 單位 輸出 法蘭型 燈絲 INFICON部件號
    355 微離子®
    355400-0-碼 模擬 DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
    355 微離子®
    355400-0-葉-T 模擬 DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051
    355 微離子® 355400-0-YK-T 模擬 DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
    355 微離子® 355400-0-YF-T 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053
    355 微離子® 355400-0-YG-T 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
    355 微離子®
    355400-0-碼 毫巴 模擬 DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
    355 微離子®
    355400-0-葉-T 毫巴 模擬 DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
    355 微離子® 355400-0-YK-T 毫巴 模擬 DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
    355 微離子® 355400-0-YF-T 毫巴 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-052
    355 微離子® 355400-0-YG-T 毫巴 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
    355 微離子®
    355400-0-碼 帕斯卡 模擬 DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
    355 微離子®
    355400-0-葉-T 帕斯卡 模擬 DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051
    355 微離子® 355400-0-YK-T 帕斯卡 模擬 DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
    355 微離子® 355400-0-YF-T 帕斯卡 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053
    355 微離子® 355400-0-YG-T 帕斯卡 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
    355 微離子®
    355600-0-碼 發(fā)光二極管 模擬 DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
    355 微離子®
    355600-0-葉-T 發(fā)光二極管 模擬 DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
    355 微離子® 355600-0-YK-T 發(fā)光二極管 模擬 DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
    355 微離子® 355600-0-YF-T 發(fā)光二極管 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-052
    355 微離子® 355600-0-YG-T 發(fā)光二極管 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
    355 微離子®
    355600-0-碼 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
    355 微離子®
    355600-0-葉-T 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051
    355 微離子® 355600-0-YK-T 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
    355 微離子® 355600-0-YF-T 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053
    355 微離子® 355600-0-YG-T 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
    355 微離子®
    355600-0-碼 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
    355 微離子®
    355600-0-葉-T 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051
    355 微離子® 355600-0-YK-T 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
    355 微離子® 355600-0-YF-T 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053
    355 微離子® 355600-0-YG-T 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
    355 微離子®
    355410-0-碼 RS485 DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
    355 微離子®
    355410-0-葉-T RS485 DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051
    355 微離子® 355410-0-YK-T RS485 DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
    355 微離子® 355410-0-YF-T RS485 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053
    355 微離子® 355410-0-YG-T RS485 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054








    354 微離子®
    354001-YD-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 模擬 DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
    354 微離子®
    354001-YE-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 模擬 DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051
    354 微離子® 354001-YK-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 模擬 DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
    354 微離子® 354001-YF-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053
    354 微離子® 354001-YG-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
    354 微離子®
    354001-YD-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 毫巴 模擬 DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
    354 微離子®
    354001-YE-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 毫巴 模擬 DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051
    354 微離子® 354001-YK-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 毫巴 模擬 DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
    354 微離子® 354001-YF-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 毫巴 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053
    354 微離子® 354001-YG-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 毫巴 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
    354 微離子®
    354001-YD-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 帕斯卡 模擬 DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
    354 微離子®
    354001-YE-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 帕斯卡 模擬 DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051
    354 微離子® 354001-YK-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 帕斯卡 模擬 DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
    354 微離子® 354001-YF-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 帕斯卡 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053
    354 微離子® 354001-YG-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 帕斯卡 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
    354 微離子®
    354002-YD-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 發(fā)光二極管 模擬 DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
    354 微離子®
    354002-YE-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 發(fā)光二極管 模擬 DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051
    354 微離子® 354002-YK-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 發(fā)光二極管 模擬 DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
    354 微離子® 354002-YF-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 發(fā)光二極管 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053
    354 微離子® 354002-YG-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 發(fā)光二極管 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
    354 微離子®
    354002-YD-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
    354 微離子®
    354002-YE-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051
    354 微離子® 354002-YK-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
    354 微離子® 354002-YF-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053
    354 微離子® 354002-YG-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
    354 微離子®
    354002-YD-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
    354 微離子®
    354002-YE-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051
    354 微離子® 354002-YK-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
    354 微離子® 354002-YF-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053
    354 微離子® 354002-YG-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
    354 微離子®
    354005-YD-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) RS485 DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
    354 微離子®
    354005-YE-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) RS485 DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051
    354 微離子® 354005-YK-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) RS485 DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
    354 微離子® 354005-YF-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) RS485 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053
    354 微離子® 354005-YG-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) RS485 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
    354 微離子®
    354005-YD-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 毫巴 RS485 DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
    354 微離子®
    354005-YE-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 毫巴 RS485 DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051
    354 微離子® 354005-YK-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 毫巴 RS485 DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
    354 微離子® 354005-YF-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 毫巴 RS485 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053
    354 微離子® 354005-YG-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 毫巴 RS485 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
    354 微離子®
    354005-YD-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 帕斯卡 RS485 DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
    354 微離子®
    354005-YE-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 帕斯卡 RS485 DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051
    354 微離子® 354005-YK-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 帕斯卡 RS485 DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
    354 微離子® 354005-YF-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 帕斯卡 RS485 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053
    354 微離子® 354005-YG-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 帕斯卡 RS485 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054









































    進(jìn)口CWFG00403 光刻膠過濾器 WGGB06S02濾芯

    ASML是 Advanced Semiconductor Material  Lithography的簡稱,中文名稱為阿斯麥(中國大陸)、艾司摩爾(中國臺灣)。艾司摩爾(ASML)為半導(dǎo)體設(shè)備供貨商,成立于1984年,是從荷商飛利浦分割出來獨立的半導(dǎo)體設(shè)備公司,總部設(shè)立于荷蘭的Veldhoven。

      ASML為半導(dǎo)體生產(chǎn)商提供光刻機及相關(guān)服務(wù),TWINSCAN系列,應(yīng)用最為廣泛的高端光刻機型。目前全球絕大多數(shù)半導(dǎo)體生產(chǎn)廠商,都向ASML采購TWINSCAN機型,例如英特爾(Inb),三星(Samsung),海力士(Hynix),臺積電(TSMC),中芯國際(SMIC)等。

      ASML的產(chǎn)品線分為PAS系列,AT系列,XT系列和NXT系列,其中PAS系列光源為高壓汞燈光源,現(xiàn)已停產(chǎn),AT系列屬于老型號,多數(shù)已經(jīng)停產(chǎn)。市場上主力機種是XT系列以及NXT系列,為ArF和KrF激光光源,XT系列是成熟的機型,分為干式和沉浸式兩種,而NXT系列則是現(xiàn)在主推的高端機型,全部為沉浸式。

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