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產品簡介
紫外光刻曝光機紫外光刻技術設備
紫外光刻曝光機紫外光刻技術設備
產品價格:¥16.00
上架日期:2024-12-23 02:31:22
產地:上海上海
發(fā)貨地:上海上海
供應數(shù)量:不限
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詳細說明
    產品參數(shù)
    品牌米歇爾MICHELL
    是否進口
    長度170cm
    滑塊數(shù)量1個
    產地上海
    可售賣地全國
    類型紫外曝光
    型號URE-2000/17

    紫外光刻系統(tǒng)
    1、曝光面積:110mm×110mm

    2、曝光波長:365nm(純凈光源)

    2、分辨力: 1.5μm

    3、對準精度 ± 1μm

    4、掩模樣片整體運動范圍:X:6mm;Y:6mm

    5、掩模尺寸:2.5寸、3寸、4寸、5寸

    6、直徑Ф15mm--Ф100mm、厚度0.1mm--6mm(可擴展為15mm);

    7、照明均勻性:±3

    9、掩模相對于樣片運動行程: X:±5mm; Y:±5mm; θ: ±6度

    10、汞燈功率:200W

    11、曝光量設定:定時曝光 定時(到計時方式 0.1s-999s任意設定、設定精度0.1s)

    12、雙目雙視場顯微鏡:物鏡三隊:4X、10X、20X,目鏡三對:10X、16X、20X或者 升級為無極變倍,觀測更加方便。

    應用領域

    集成電路芯片、電子封裝、微電子機械系統(tǒng)、微光學元件、紅外探測器生物電泳芯片、激光二極管光刻、光柵光刻,波導陣列光刻、液晶顯示聲表器件、平板顯示器、大尺寸光柵、碼盤刻劃等

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