| 產(chǎn)品參數(shù) | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | 米歇爾MICHELL | ||
| 是否支持加工定制 | 否 | ||
| 是否進(jìn)口 | 否 | ||
| 保護(hù)功能 | 齊全 | ||
| 尺寸 | 1cm | ||
| 可售賣地 | 全國 | ||
| 材質(zhì) | 精密 | ||
半導(dǎo)體紫外光刻機(jī)
1、曝光面積：110mm×110mm
2、曝光波長：365nm（純凈光源）
2、分辨力： 1.5μm
3、對準(zhǔn)精度 ± 1μm
4、掩模樣片整體運(yùn)動(dòng)范圍：X：6mm;Y:6mm
5、掩模尺寸：2.5寸、3寸、4寸、5寸
6、直徑Ф15mm--Ф100mm、厚度0.1mm--6mm(可擴(kuò)展為15mm)；
7、照明均勻性：±3
9、掩模相對于樣片運(yùn)動(dòng)行程： X:±5mm; Y:±5mm; θ: ±6度
10、汞燈功率：200W
11、曝光量設(shè)定：定時(shí)曝光 定時(shí)（到計(jì)時(shí)方式 0.1s-999s任意設(shè)定、設(shè)定精度0.1s）
12、雙目雙視場顯微鏡：物鏡三隊(duì)：4X、10X、20X，目鏡三對：10X、16X、20X或者 升級為無極變倍，觀測更加方便。
應(yīng)用領(lǐng)域
集成電路芯片、電子封裝、微電子機(jī)械系統(tǒng)、微光學(xué)元件、紅外探測器生物電泳芯片、激光二極管光刻、光柵光刻，波導(dǎo)陣列光刻、液晶顯示聲表器件、平板顯示器、大尺寸光柵、碼盤刻劃等