| 詳細(xì)參數(shù) | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | HarmonicDrive | 型號(hào) | SHD-14-50-2SH |
| 類型 | 諧波減速器 | 載荷狀態(tài) | 強(qiáng)沖擊載荷 |
| 傳動(dòng)比級(jí)數(shù) | 三級(jí) | 軸的相對(duì)位置 | 臥式減速器 |
| 傳動(dòng)布置形式 | 擺線式 | 加工定制 | 是 |
| 樣品或現(xiàn)貨 | 現(xiàn)貨 | 齒面硬度 | 軟齒面 |
| 布局形式 | 三環(huán)式 | 用途 | 變速機(jī) |
| 輸入轉(zhuǎn)速 | 1450rpm | 額定功率 | 360kw |
| 輸出轉(zhuǎn)速范圍 | 50rpm | 許用扭矩 | 1782N.m |
| 使用范圍 | 軍工 | 減速比 | 45 |
| 產(chǎn)地 | 日本 | ||
光刻的目的是將電路圖形轉(zhuǎn)移到覆蓋于硅片表面的光刻膠上日本HD離子傳輸諧波SHD-14-50-2SH。光刻膠是一種光敏的化學(xué)物質(zhì)，它通過(guò)深紫外線（或極紫外線）曝光來(lái)印制掩模板的圖像。涂膠和顯影設(shè)備是用來(lái)完成光刻的一系列工具的組合。光刻過(guò)程包括預(yù)處理、涂膠、甩膠、烘干，然后用機(jī)械臂將涂膠的硅片送入光刻機(jī)。以步進(jìn)式光刻機(jī)為例，日本HD離子傳輸諧波SHD-14-50-2SH在進(jìn)行硅片和掩模板的對(duì)準(zhǔn)、聚焦后，步進(jìn)式光刻機(jī)先曝光硅片上的一小片面積，隨后步進(jìn)到硅片的下一區(qū)域并重復(fù)這一過(guò)程。
（3）刻蝕 刻蝕是在沒(méi)有光刻膠保護(hù)的地方留下永久的圖形。日本HD離子傳輸諧波SHD-14-50-2SH刻蝕工藝一般使用等離子體刻蝕機(jī)、等離子體去膠機(jī)和濕法清洗設(shè)備。現(xiàn)在主要使用干法等離子體刻蝕工藝。
