| 詳細(xì)參數(shù) | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | HarmonicDrive | 型號 | SHD-14-50-2SH |
| 類型 | 諧波減速器 | 載荷狀態(tài) | 中等沖擊載荷 |
| 傳動比級數(shù) | 單級 | 軸的相對位置 | 立式加速器 |
| 傳動布置形式 | 同軸式 | 加工定制 | 是 |
| 樣品或現(xiàn)貨 | 現(xiàn)貨 | 齒面硬度 | 軟齒面 |
| 布局形式 | 擺線式 | 用途 | 變速機(jī) |
| 輸入轉(zhuǎn)速 | 3000rpm | 額定功率 | 360kw |
| 輸出轉(zhuǎn)速范圍 | 50rpm | 許用扭矩 | 691N.m |
| 使用范圍 | 礦產(chǎn) | 減速比 | 23 |
| 產(chǎn)地 | 日本 | ||
從上世紀(jì)80年代到本世紀(jì)初，光學(xué)曝光是主要的光刻方法，光學(xué)曝光使用深紫外光哈默納科EUV技術(shù)諧波SHD-14-50-2SH 。從20世紀(jì)80年代初的3mm集成電路到2004年90nm的集成電路的發(fā)展，光學(xué)曝光光源使用汞燈，波長從G線（436nm）、I線（365nm），再到使用準(zhǔn)分子激光光源，波長為248nm和193nm。哈默納科EUV技術(shù)諧波SHD-14-50-2SH過去的十年中產(chǎn)業(yè)界利用大數(shù)值孔徑和浸沒式曝光技術(shù)，以及離軸照明技術(shù)(Off Axis illumination,OAI)、空間濾波技術(shù)、相位移掩模（Phase Shift Mask, PSM）、光學(xué)臨近效應(yīng)校正技術(shù)等光學(xué)曝光分辨率增強(qiáng)技術(shù)哈默納科EUV技術(shù)諧波SHD-14-50-2SH ，使用193nm的深紫外光將集成電路最小尺寸做到了22nm。目前利用極紫外（EUV）光刻技術(shù)，
