| 詳細(xì)參數(shù) | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | HarmonicDrive | 型號 | CSF-50-160-2UH |
| 類型 | 諧波減速器 | 載荷狀態(tài) | 強沖擊載荷 |
| 傳動比級數(shù) | 三級 | 軸的相對位置 | 立式加速器 |
| 傳動布置形式 | 三環(huán)式 | 加工定制 | 是 |
| 樣品或現(xiàn)貨 | 現(xiàn)貨 | 齒面硬度 | 硬齒面 |
| 布局形式 | 三環(huán)式 | 用途 | 減速機 |
| 輸入轉(zhuǎn)速 | 1450rpm | 額定功率 | 111kw |
| 輸出轉(zhuǎn)速范圍 | 50rpm | 許用扭矩 | 691N.m |
| 使用范圍 | 化工 | 減速比 | 3322 |
| 產(chǎn)地 | 日本 | ||
（1） 注入機中的磁性離子分析器能將需要的雜質(zhì)離子從混合的離子束中分離出來。
（2） 加速管。為了獲得更高的能量（也就是運動速度）日本HD裝卸設(shè)備諧波CSF-50-160-2UH，正離子還需要在加速管中的電場下進(jìn)行加速。
（3） 掃描系統(tǒng)。注入機離子束斑約1~3cm2，日本HD裝卸設(shè)備諧波CSF-50-160-2UH需要通過掃描覆蓋整個硅片?？梢酝ㄟ^固定硅片，移動束斑，或者相反操作進(jìn)行掃描。掃描系統(tǒng)有靜電掃描、機械掃描、混合掃描和平行掃描。
（4） 工藝腔。離子束注入在工藝腔中進(jìn)行。一般工藝腔包括掃描系統(tǒng)、硅片裝卸終端臺、硅片傳輸系統(tǒng)、檢測系統(tǒng)，以及控制溝道效應(yīng)的裝置。
離子注入?yún)?shù)主要有劑量和射程。日本HD裝卸設(shè)備諧波CSF-50-160-2UH劑量是單位面積硅片注入的離子數(shù)，單位是原子每平方厘米（或離子每平方厘米）。射程是離子注入過程中，離子穿入硅片的總距離。注入機的能量越高，則雜質(zhì)原子穿入硅片深度越大。
