| 詳細參數(shù) | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | HarmonicDrive | 型號 | SHD-40-100-2SH |
| 類型 | 無級減速器 | 載荷狀態(tài) | 中等沖擊載荷 |
| 傳動比級數(shù) | 單級 | 軸的相對位置 | 立式加速器 |
| 傳動布置形式 | 擺線式 | 加工定制 | 是 |
| 樣品或現(xiàn)貨 | 樣品 | 齒面硬度 | 軟齒面 |
| 布局形式 | 三環(huán)式 | 用途 | 減速機 |
| 輸入轉(zhuǎn)速 | 3000rpm | 額定功率 | 111kw |
| 輸出轉(zhuǎn)速范圍 | 47.6rpm | 許用扭矩 | 691N.m |
| 使用范圍 | 礦產(chǎn) | 減速比 | 453 |
| 產(chǎn)地 | 日本 | ||
半導體制造關鍵工藝技術及設備
半導體芯片制造工藝過程中使用最多的是光刻工藝。哈默納科中空光軸諧波SHD-40-100-2SH才光刻工藝系統(tǒng)所用設備由自動硅片軌道系統(tǒng)串聯(lián)而成。曝光晶圓尺寸大小、曝光分辨率、單位時間曝光晶圓數(shù)是衡量一個光刻機性能的主要技術指標，也是決定一個光刻生產(chǎn)線生產(chǎn)能力的哈默納科中空光軸諧波SHD-40-100-2SH核心設備。
目前通常使用的光刻機包括：接觸式光刻機、接近式光刻機、掃描投影光刻機、分步重復光刻機、步進掃描光刻機。一般根據(jù)生產(chǎn)批量及芯片的特征值不同分別使用不同的光刻系統(tǒng)。接觸式光刻機、接近式光刻機通常用于實驗室小批量生產(chǎn)微米級芯片，此外接觸式光刻機、接近式光刻機也用于微機械結構的光刻加工哈默納科中空光軸諧波SHD-40-100-2SH。大批量亞微米到納米級芯片通常使用掃描投影光刻機、分步重復光刻機、步進掃描光刻機。
