| 詳細(xì)參數(shù) | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | HarmonicDrive | 型號 | 哈默納科 |
| 類型 | 諧波減速器 | 載荷狀態(tài) | 強(qiáng)沖擊載荷 |
| 傳動比級數(shù) | 單級 | 軸的相對位置 | 立式加速器 |
| 傳動布置形式 | 擺線式 | 加工定制 | 是 |
| 樣品或現(xiàn)貨 | 現(xiàn)貨 | 齒面硬度 | 軟齒面 |
| 布局形式 | 同軸式 | 用途 | 減速機(jī) |
| 輸入轉(zhuǎn)速 | 3000rpm | 額定功率 | 360kw |
| 輸出轉(zhuǎn)速范圍 | 50rpm | 許用扭矩 | 691N.m |
| 使用范圍 | 化工 | 減速比 | 543 |
| 產(chǎn)地 | 日本 | ||
光刻包括兩種基本的工藝類型：負(fù)性光刻和正性光刻。日本HD顯影檢查諧波CSF-14-50-2UJ負(fù)性光刻把與掩模版上圖形相反的圖形復(fù)制到硅片表面。正性光刻把與掩模版上相同的圖形復(fù)制到硅片上。這兩種基本工藝的主要區(qū)別在于所用光刻膠的種類不同。如圖2.14所示，光刻工藝過程包括8個基本步驟：日本HD顯影檢查諧波CSF-14-50-2UJ氣相成底模、旋轉(zhuǎn)涂膠、軟烘、對準(zhǔn)和曝光、曝光后烘培、顯影、堅膜烘培、顯影檢查。
如圖2.15所示，由硅片傳送系統(tǒng)將光刻工藝的基本設(shè)備串接在一起組成自動硅片光刻工藝加工系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)硅片的自動化光刻加工。在光刻的基本工藝中對準(zhǔn)和曝光是最為關(guān)鍵的工藝。日本HD顯影檢查諧波CSF-14-50-2UJ對準(zhǔn)和曝光通常在曝光機(jī)（通常也被稱作光刻機(jī)）上完成，
