| 詳細(xì)參數(shù) | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | HarmonicDrive | 型號(hào) | SHD-20-100-2SH, |
| 類型 | 諧波減速器 | 載荷狀態(tài) | 強(qiáng)沖擊載荷 |
| 傳動(dòng)比級(jí)數(shù) | 雙級(jí) | 軸的相對(duì)位置 | 立式加速器 |
| 傳動(dòng)布置形式 | 分流式 | 加工定制 | 是 |
| 樣品或現(xiàn)貨 | 現(xiàn)貨 | 齒面硬度 | 軟齒面 |
| 布局形式 | 擺線式 | 用途 | 變速機(jī) |
| 輸入轉(zhuǎn)速 | 1450rpm | 額定功率 | 360kw |
| 輸出轉(zhuǎn)速范圍 | 50rpm | 許用扭矩 | 691N.m |
| 使用范圍 | 機(jī)械設(shè)備 | 減速比 | 43 |
| 產(chǎn)地 | 日本 | ||
拖住化學(xué)蒸氣分子；同時(shí)因硅芯片表面溫度高于邊界層外緣之蒸氣溫度日本HD晶圓設(shè)備諧波SHD-20-100-2SH，芯片將釋出熱量，來供給被拖住之化學(xué)蒸氣分子在芯片表面完成薄膜材質(zhì)解離析出之所需能量。所以基本上，化學(xué)氣相沉積就是大自然「輸送現(xiàn)象」(transportphenomena)的應(yīng)用。
常壓化學(xué)氣相沉積速度頗快，但成日本HD晶圓設(shè)備諧波SHD-20-100-2SH長薄膜的質(zhì)地較為松散。另外若晶圓不采水平擺放的方式(太費(fèi)空間)，薄膜之厚度均勻性(thicknessunibity)不佳。
1、 低壓化學(xué)氣相沉積(LowPressureCVD；LPCVD)
為進(jìn)行50片或更多晶圓之批次量產(chǎn)，爐管內(nèi)之晶圓勢必要垂直日本HD晶圓設(shè)備諧波SHD-20-100-2SH密集地豎放于晶舟上，這明顯衍生沉積薄膜之厚度均勻性問題；
