詳細參數(shù) | |||
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品牌 | HarmonicDrive | 型號 | CSF-17-80-2A-R |
類型 | 諧波減速器 | 載荷狀態(tài) | 中等沖擊載荷 |
傳動比級數(shù) | 單級 | 軸的相對位置 | 立式加速器 |
傳動布置形式 | 分流式 | 加工定制 | 是 |
樣品或現(xiàn)貨 | 樣品 | 齒面硬度 | 軟齒面 |
布局形式 | 三環(huán)式 | 用途 | 變速機 |
輸入轉(zhuǎn)速 | 3000rpm | 額定功率 | 360kw |
輸出轉(zhuǎn)速范圍 | 50rpm | 許用扭矩 | 691N.m |
使用范圍 | 化工 | 減速比 | 4543 |
產(chǎn)地 | 日本 |
微影光蝕刻術(shù)起源于照相制版的技術(shù)。自1970年起,哈默納科正負光阻諧波傳動CSF-17-80-2A-R 才大量使用于半導體制程之圖形轉(zhuǎn)寫復制。原理即利用對紫外線敏感之聚合物,或所謂光阻(photo-resist)之受曝照與否,來定義該光阻在顯影液(developer)中是否被蝕除,而最終留下與遮掩罩幕,即光罩(mask)哈默納科正負光阻諧波傳動CSF-17-80-2A-R相同或明暗互補之圖形;相同者稱之「正光阻」(positiveresist),明暗互補者稱之「負光阻」(negativeresist),如圖2-6所示。一般而言,正光阻,如AZ-1350、AZ-5214、FD-6400L等,其分辨率及邊緣垂直度均佳,但易變質(zhì),儲存期限也較短(約半年到一年之間),常用哈默納科正負光阻諧波傳動CSF-17-80-2A-R于學術(shù)或研發(fā)單位;而負光阻之邊緣垂直度較差,但可儲存較久,常為半導體業(yè)界所使用。