| 詳細(xì)參數(shù) | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | 其他 | 型號(hào) | 型號(hào)齊全 |
| 類型 | 其他 | 精度等級(jí) | 其他 |
| 加工定制 | 否 | 產(chǎn)地 | 其他 |
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二是提高采暖、空調(diào)、照明等用能系統(tǒng)效率。提高建筑物保溫隔熱性能后，降低了建筑物暖通空調(diào)系統(tǒng)的冷熱負(fù)荷需求，還需進(jìn)一步挖掘用能系統(tǒng)的節(jié)能潛力。在用能負(fù)荷不變的情況下，提高能源利用效率，相當(dāng)于節(jié)約了能源。三是利用新能源和可再生能源。煤炭、石油、天然氣等常規(guī)能源貯存量有限，終會(huì)枯竭。同時(shí)，礦物燃料的燃燒產(chǎn)生溫室氣體，還會(huì)污染環(huán)境。開發(fā)利用可再生能源替代常規(guī)能源是未來(lái)的趨勢(shì)，可再生能源用于建筑采暖空調(diào)系統(tǒng)是可再生能源利用的重要方向。
水和能源是這個(gè)千年的主題。
本次環(huán)境海水淡化會(huì)議將致力于以可承受的成本和經(jīng)濟(jì)的能源需求為所有人提供淡水。隨著自然資源的有限和枯竭，海水淡化可以補(bǔ)充可持續(xù)發(fā)展所需的一些嚴(yán)重缺乏的水量。
將討論它在水循環(huán)中的位置。會(huì)議將概述海水淡化技術(shù)的發(fā)展、成本和應(yīng)用范圍，包括社會(huì)經(jīng)濟(jì)和環(huán)境問(wèn)題。
它將匯集來(lái)自水公司、工業(yè)、部門、咨詢公司、研究所和大學(xué)的研究科學(xué)家、決策者、經(jīng)理、設(shè)計(jì)工程師和操作員。
在這個(gè)蓬勃發(fā)展的市場(chǎng)中，工業(yè)、研究和決策的地位將得到強(qiáng)調(diào)。
為什么以及如何將海水淡化納入或區(qū)域水管理計(jì)劃，確保社會(huì)經(jīng)濟(jì)和環(huán)境效益，將是會(huì)議的焦點(diǎn)。
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Wang等［15］提出了一種新型微波輔助光催化膜蒸餾(MPMD)工藝，用于處理含有無(wú)機(jī)離子的煤氣化有機(jī)廢水。結(jié)果顯示，在12h以上的操作后，CODcr去除率高于96%，NH4+－N為98%。Wu等［16］采用直接接觸膜蒸餾(DCMD)處理高濃度有機(jī)發(fā)酵廢水，系統(tǒng)考察了DCMD的性能特點(diǎn)，包括滲透通量，滲透水質(zhì)量以及膜污染等。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明，在12hDCMD過(guò)程之后，超過(guò)95%的COTOC和蛋白質(zhì)被截留；膜表面沉積物很難通過(guò)水沖洗清洗，而大多數(shù)可以通過(guò)HCl溶液除去；總之，DCMD是一個(gè)有前景的處理高濃度有機(jī)發(fā)酵廢水處理工藝，進(jìn)一步研究應(yīng)用需針對(duì)膜污染控制。濾、微濾、納濾和反滲透根據(jù)截留分子量的不同，可將膜分為微濾膜(MF)、超濾膜(UF)、納濾膜(NF)和反滲透膜(RO)等。在印染行業(yè)，人們?cè)絹?lái)越重視應(yīng)用陶瓷納濾膜(NF)從高鹽度廢水中回收提取染料和鹽類物質(zhì)(如NaCl)。Da等提出了水溶膠－凝膠法制備高通量氧化釔穩(wěn)定氧化鋯(YSZ)NF膜處理印染廢水，該膜的透水性為28Lm－2h－1bar－1，結(jié)果顯示：在合適的條件下，NaCl去除率達(dá)到98%以上，增白劑回收率為99%，表明陶瓷NF膜是處理染料廢水的合理技術(shù)。
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穆格MOOG伺服閥 D661-4770
穆格MOOG伺服閥 D662-4194/D061-9420
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MOOG 穆格伺服閥 G761-3033B
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EMG 伺服閥 LLS 675/02
EMG 伺服閥 SV1-10/32/315-6
EMG 伺服閥 SV1-10/8/315/6SV1-10/16/120/6
EMG 伺服閥 SV1-10/48/315-6
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EMG傳感器KLW 300.012
EMG 位置傳感器 KLW 150.012
EMG 傳感器 KLW 225.012
EMG 位置傳感器 KLW 360.012
EMG 位置傳感器 KLW150.012
EMG 位置傳感器 KLW225.012
EMG 位置傳感器 KLW300.012
EMG 位置傳感器 KLW450.012
EMG 位置傳感器 KLW600.012
EMG 伺服閥 SV1-10/8/315/6
EMG 伺服閥 SV1-10/48/315/6
EMG 伺服閥 SV1-10/32/100/6
EMG 伺服閥 SV1-10/8/120/6
EMG 伺服閥 SV1-10/4/120/6
EMG 伺服閥 SV2-16/125/315/1/1/01
EMG 濾芯 HFE400/10H
EMG 位移傳感器 KLM300/012
EMG 對(duì)中整流器 LLS675/02
EMG 光 LIC1075/11
EMG 電路處理板 EVK2.12
EMG 電源 BK11.02
EMG 處理器 MCU16.1
EMG VKI3-11-200/1600/750/M/E/W/A/
EMG 對(duì)中光源 LID2-800.2C
EMG 對(duì)中光源 LID2-800.2C
EMG 電動(dòng)執(zhí)行器 DMC2000-B3-160-SMC002-DCS
EMG 位移傳感器 KLW300.012
EMG 電路板 LIC2.01.1
EMG 推動(dòng)桿EB1250-60IIW5T
EMG 推動(dòng)桿EB800-60II
EMG 推動(dòng)桿EB220-50/2IIW5T
EMG 推動(dòng)桿EB300-50IIW5T
EMG 發(fā)射光源L1C770/01-24VDC/3.0A
EMG 制動(dòng)器ED121/6 2LL5 551-1
EMG 光電探頭EVK2-CP/800.71L/R
EMG 放大器EVB03/235351
EMG 對(duì)中控制SMI 2.11.1/2358100134300
EMG 電路板SMI 2.11.3/235990
EMG 泵DMC 249-A-40
EMG 泵DMC 249-A-50
EMG 泵DMC 30 A-80
EMG 泵DPMC 59-V-8
EMG 位置傳感器LWH-0300
EMG 電動(dòng)執(zhí)行器DMCR59-B1-10
EMG 伺服閥SV1-10/32/315/6
EMG 伺服閥SV1-10/32/315/8
EMG 伺服閥SV1-10/48/315/8
EMG 伺服閥SV2-10/64/210/6
EMG對(duì)中光源LID2-800.2C
EMG KLW300-012
CPC LS14.02
KLW 360.012
EPC EVM2-CP/1300.71/L/R
EPC CCDPro 5000
CPC LS13.01
EMG光電式測(cè)量傳器 EVM2-CP/1850 71/L/R
EMG高頻光源 LLS875/01
EMG數(shù)字式控制器 ICON SE+VS/AE1054
EMG適配器 EVB03.01
EEV 磁控管 MG5223
EEV 磁控管 MG5436
EEV 磁控管 MG5424
EEV 磁控管 MG5223F
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