詳細參數(shù) | |||
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品牌 | 其他 | 型號 | 型號齊全 |
類型 | 其他 | 精度等級 | 其他 |
加工定制 | 否 | 產(chǎn)地 | 其他 |
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與傳統(tǒng)的石灰石-石膏法相比,該方法系統(tǒng)簡單、工程投資和運行費用低、占地面積小,更適于對現(xiàn)有設(shè)備的改造。同時,該法具有吸收劑循環(huán)利用率高、氣固相接觸時間長、控制靈活、產(chǎn)物無廢水等優(yōu)點。但其的缺點是脫硫副產(chǎn)物難以被利用,這給它的推廣和應(yīng)用帶來了一定困難。高能電子氧化法。高能電子氧化法包括電子束法(EB:)、脈沖電暈等離子體技術(shù)(PCDP)和流光放電等離子體技術(shù)等,其核心原理基本上都是利用電子加速器、高壓脈沖電源或高電位差的流光頭來產(chǎn)生強氧化性的自由基OH2O2等活性物質(zhì),進而把煙氣中的SO2和NO氧化為SO2和NO2;這些高價的硫氧化物和氮氧化物與水蒸氣反應(yīng)生成霧狀的硫酸和,并與加入的NH3反應(yīng)生成硫銨和硝銨,脫硫、脫硝同時完成。
水和能源是這個千年的主題。
本次環(huán)境海水淡化會議將致力于以可承受的成本和經(jīng)濟的能源需求為所有人提供淡水。隨著自然資源的有限和枯竭,海水淡化可以補充可持續(xù)發(fā)展所需的一些嚴重缺乏的水量。
將討論它在水循環(huán)中的位置。會議將概述海水淡化技術(shù)的發(fā)展、成本和應(yīng)用范圍,包括社會經(jīng)濟和環(huán)境問題。
它將匯集來自水公司、工業(yè)、部門、咨詢公司、研究所和大學的研究科學家、決策者、經(jīng)理、設(shè)計工程師和操作員。
在這個蓬勃發(fā)展的市場中,工業(yè)、研究和決策的地位將得到強調(diào)。
為什么以及如何將海水淡化納入或區(qū)域水管理計劃,確保社會經(jīng)濟和環(huán)境效益,將是會議的焦點。
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機械密封\APP21-46180B4631
沖洗閥套件\APP21-46&APPWHC15-30\180B4170
斜盤套件\APP21\1200&APP26\1500180B4167
閥板套件\APP21-26180B4165
接口法蘭套件\APP21-46&APPWHC15-30\180B4633
保持球套件\APP21-26&APP301500\180B4164
密封套件\APP21-46180B4632不含機械密封
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一般進水應(yīng)該選用反滲透工藝還是離子交換工藝?在許多進水條件下,采用離子交換樹脂或反滲透在技術(shù)上均可行,工藝的選擇則應(yīng)由經(jīng)濟性比較而定,一般情況下,含鹽量越高,反滲透就越經(jīng)濟,含鹽量越低,離子交換就越經(jīng)濟。由于反滲透技術(shù)的大量普及,采用反滲透+離子交換工藝或多級反滲透或反滲透+其它深度除鹽技術(shù)的組合工藝已經(jīng)成為公認的技術(shù)與經(jīng)濟更為合理的水處理方案,如需深入了解,請咨詢水處理工程公司代表。反滲透膜元件一般能用幾年?膜的使用壽命取決于膜的化學穩(wěn)定性、元件的物理穩(wěn)定性、可清洗性、進水水源、預(yù)處理、清洗頻率、操作管理水平等。
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穆格MOOG伺服閥 D661-4770
穆格MOOG伺服閥 D662-4194/D061-9420
穆格MOOG伺服閥 D662-4141/D062-9320
MOOG 穆格伺服閥 G761-3033B
MOOG 穆格伺服閥 G761-3034B
MOOG 穆格伺服閥 G761-3023B
MOOG 穆格伺服閥 G761-3002B
EMG 伺服閥 LLS 675/02
EMG 伺服閥 SV1-10/32/315-6
EMG 伺服閥 SV1-10/8/315/6SV1-10/16/120/6
EMG 伺服閥 SV1-10/48/315-6
EMG 伺服閥 SV1-10/16/315-6
EMG傳感器KLW 300.012
EMG 位置傳感器 KLW 150.012
EMG 傳感器 KLW 225.012
EMG 位置傳感器 KLW 360.012
EMG 位置傳感器 KLW150.012
EMG 位置傳感器 KLW225.012
EMG 位置傳感器 KLW300.012
EMG 位置傳感器 KLW450.012
EMG 位置傳感器 KLW600.012
EMG 伺服閥 SV1-10/8/315/6
EMG 伺服閥 SV1-10/48/315/6
EMG 伺服閥 SV1-10/32/100/6
EMG 伺服閥 SV1-10/8/120/6
EMG 伺服閥 SV1-10/4/120/6
EMG 伺服閥 SV2-16/125/315/1/1/01
EMG 濾芯 HFE400/10H
EMG 位移傳感器 KLM300/012
EMG 對中整流器 LLS675/02
EMG 光 LIC1075/11
EMG 電路處理板 EVK2.12
EMG 電源 BK11.02
EMG 處理器 MCU16.1
EMG VKI3-11-200/1600/750/M/E/W/A/
EMG 對中光源 LID2-800.2C
EMG 對中光源 LID2-800.2C
EMG 電動執(zhí)行器 DMC2000-B3-160-SMC002-DCS
EMG 位移傳感器 KLW300.012
EMG 電路板 LIC2.01.1
EMG 推動桿EB1250-60IIW5T
EMG 推動桿EB800-60II
EMG 推動桿EB220-50/2IIW5T
EMG 推動桿EB300-50IIW5T
EMG 發(fā)射光源L1C770/01-24VDC/3.0A
EMG 制動器ED121/6 2LL5 551-1
EMG 光電探頭EVK2-CP/800.71L/R
EMG 放大器EVB03/235351
EMG 對中控制SMI 2.11.1/2358100134300
EMG 電路板SMI 2.11.3/235990
EMG 泵DMC 249-A-40
EMG 泵DMC 249-A-50
EMG 泵DMC 30 A-80
EMG 泵DPMC 59-V-8
EMG 位置傳感器LWH-0300
EMG 電動執(zhí)行器DMCR59-B1-10
EMG 伺服閥SV1-10/32/315/6
EMG 伺服閥SV1-10/32/315/8
EMG 伺服閥SV1-10/48/315/8
EMG 伺服閥SV2-10/64/210/6
EMG對中光源LID2-800.2C
EMG KLW300-012
CPC LS14.02
KLW 360.012
EPC EVM2-CP/1300.71/L/R
EPC CCDPro 5000
CPC LS13.01
EMG光電式測量傳器 EVM2-CP/1850 71/L/R
EMG高頻光源 LLS875/01
EMG數(shù)字式控制器 ICON SE+VS/AE1054
EMG適配器 EVB03.01
EEV 磁控管 MG5223
EEV 磁控管 MG5436
EEV 磁控管 MG5424
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